Feuchtmittel

Ursprünglich, bei der Erfindung der Lithografie, hatte Alois Senefelder eine wässrige Lösung von Gummiarabikum verwendet, um eine Kalkoberfläche zu einer Hochdruckform herunter zu ätzen. Bei seinen Versuchen merkte er, dass er nur kurz anätzen musste, damit an diesen Stellen keine Farbe angenommen wurde. Damit war das Flachdruckverfahren mit Feuchtmittel (Steindruck,  Lithografie) erfunden. Bis heute ist Gummiarabikum, ein natürliches Polysaccharid, die am besten geeignete Schutzsubstanz für die nichtdruckenden Partien. Sie kann sich sehr fest auf die moderne Plattenoberfläche aus Aluminiumoxid setzen und dort begierig Wasser anziehen. Eine einfache Lösung von Gummiarabikum und Säure in Wasser würde allerdings heute im modernen Offsetdruck nicht mehr genügen, um den sensiblen Druckprozess über eine Auflage oder gar eine ganze Arbeitsschicht aufrechtzuerhalten. Feuchtmittel sind heute fein abgestimmte wässrige Lösungen, die im Offset zusammen mit der Farbe verdruckt werden.