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Fotolack
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Fotolack
Fotolacke
werden bei der
fotolithografischen
Strukturierung verwendet, insbesondere in der
Mikroelektronik
und der
Mikrosystemtechnik
für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der
Leiterplattenherstellung
. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind
Polymere
(z. B.
Polymethylmethacrylat
,
Novolak
, Polymethylglutarimid) bzw.
Epoxidharze
(z. B.
SU-8
), Lösungsmittel wie
Cyclopentanon
oder Gamma-Butyrolacton, sowie eine fotoempfindliche Komponente.
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