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Fotomaske
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Fotomaske
Fotomasken
sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die
fotolithografische Strukturierung
bei der Herstellung von
mikroelektronischen Schaltungen
oder
Mikrosystemen
ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem
Quarzglas
oder
Calciumfluorid
(Lithografie mit
Laserlicht
der
Wellenlänge
248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten
Chromschicht
versehen.
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